SH），受益標的為路維光電（688401...

一、程式1：表面處理（清洗）晶片製造的過程被稱為超大規模積體電路工藝（ULSI，Ultra Large Scale Integration），清洗是一個頻度極高的程式，基本上每一個單鏈（光刻、刻蝕）完成後都要進行清洗，對矽片的清洗需要用到很...

光刻機的研發難點之二：鏡頭由於EUV的光源太短，除了會被空氣吸收之外，還會被玻璃吸收...

經過多年技術積累和自主創新，公司在 G11 超高世代掩膜版、 高世代高精度半色調掩膜版和光阻塗布等產品和技術方面，打破了國外廠商的 長期壟斷，對於推動我國平板顯示行業和半導體行業關鍵材料的國產化程序、 逐步實現進口替代具有重要意義...

同時，Ronneberger 等人（U-Net 作者）提出了基於每個畫素的加權損失方案，使得在分割物件的邊界具有更高的權重...

目前中國企業在高階光掩膜版上仍然高度依賴進口，一眾日本巨頭不僅壟斷了中國高階市場，還幾乎壟斷了全球市場...

05 總結谷歌引入了一種新的瀏覽器內機器學習解決方案，用於在谷歌會議app中實現背景模糊和替換功能，機器學習模型和OpenGL著色器可以在網路上高效執行，所開發的功能實現了低功耗的實時效能，即使是在低功耗終端裝置上...

然後，鑽石刀將矽晶柱切成圓片，拋光後便形成矽晶圓，晶片的地基也就完成了...

但是，有了極紫外光刻機，也需要光刻膠和掩膜版來進行配套才行...

光刻工藝過程一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序...

製造光刻機最大的瓶頸只有三個“光源+鏡頭+掩膜臺”，搞定了這三個瓶頸之後，剩餘的小瓶頸就靠精加工實力了...