中國晶片：將率先量產光子晶片，不再需要ASML的光刻機

據《北京日報》報道指中國正籌建光子晶片生產線，預計將在2023年建成，這意味著中國在光子晶片方面已走在世界前面，徹底改變當下的晶片技術路線，這讓外媒驚歎中國晶片技術的飛躍發展。

據業界人士指出光子晶片將具有諸多技術優勢，首先是它計算速度超級快，資訊容量更大，將比當下的矽基晶片提升1000倍以上，如此將推動晶片技術取得跨越式發展，隨著資料噴發式增長，如今科技行業需要效能更強大的晶片，而光子晶片將能有效滿足需求。

其次則是光子晶片的功耗更低，光子晶片比矽基晶片的功耗低近千倍，當下全球各個網際網路企業都為資料中心的能源消耗撓頭，資料中心的耗電只有三成左右用於計算，其中七成則是發熱以及為之建設的空調系統，造成極大的能源浪費。

再次是光子晶片將徹底打破矽基晶片的工藝極限，業界都認為矽基晶片的極限在1nm，而臺積電的先進工藝發展到3nm已面臨極大困難，臺積電的3nm量產時間比預期延遲了近一年，效能卻未達到預期，而且成本已高到許多晶片企業無法承受。

ASML表示用於2nm工藝的第二代EUV光刻機價格將達到4億美元，比用於當前5nm工藝的EUV光刻機貴了3倍多，而耗電量更是數倍增長，這都說明越接近矽基晶片的極限，效能提升難度越高、成本倍增，光子晶片恰恰能有效降低成本，同時也將變革當前的晶片製造工藝。

光子晶片即將商用對中國晶片行業來說更是極具意義，這意味著中國將徹底擺脫對外國晶片的依賴，甚至還將有望由此引領全球晶片技術的發展。

由於眾所周知的原因，中國目前研發7nm及更先進工藝受到ASML的光刻機供應影響，中國晶片企業訂購的EUV光刻機至今未能到貨，而近期ASML又被要求14nm以下的DUV光刻機都不能供應給中國。

光子晶片的量產將讓中國不再需要ASML的光刻機，晶片產業的發展從此海闊天空，晶片產業的瓶頸得到突破，據悉光子晶片可以在通訊、伺服器晶片、鐳射雷達、醫療等諸多行業應用，將推動中國在諸多科技行業進入跨越式發展。

中國的5G技術已居於全球第一，自動駕駛、人工智慧等新興科技也在全球居於前列，業界人士認為相關國家正是因為擔憂中國的科技可能會取得領導地位而構成威脅，才會在晶片技術上不斷施加阻力，如今光子晶片的突破不僅破除了這個限制，還會成為中國在新興科技領域的助推器。

回顧近十年來全球晶片行業向來由海外晶片企業引領，到如今短短數年時間中國晶片取得了長足進步，到如今在光子晶片方面的突破成為全球晶片技術領軍者，諸多技術限制由此被牙解，如此也就難怪海外媒體驚訝不已。