上海微電子的新一代光刻機，與荷蘭阿斯麥爾技術相差20年！

9月19號，上海微電子裝備集團（以下簡稱“上微”）宣佈推出

SSB520型新一代大視場高解析度先進封裝光刻機！

首臺計劃於年內交付使用！目前，上微已經與多家客戶達成銷售協議！

新一代封裝光刻機投影系統全面升級，可滿足0。8μm（微米，1 微米=1000 奈米）解析度光刻工藝需求，極限解析度可達0。6μm；透過升級運動、量測和控制系統，套刻精度提升至≤100nm，並能保持長期穩定性。

此外，曝光視場可提供53mm×66mm（4倍IC前道標準視場尺寸）和60mm×60mm兩種配置，可滿足異構整合超大晶片封裝尺寸的應用需求。

可能有很多人不瞭解上微，上微曾被稱為中國半導體救星！成立於2002年，剛開始的上微靠高價買零部件組裝加以模仿起步，到現在，上微已經擁有不下於3000項專利！

起初的10年僅有6億的研發經費，而當時的中芯國際擁有100億資金。這點經費對於上微來說非常的艱難，但目前看來上微做到了。

上微主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

上微的光刻機在世界上最多算得上二流甚至不入流，跟荷蘭的阿斯麥爾相差至少20年的技術。

當年的阿斯麥爾背靠飛利浦，合作臺積電，入股Intel以及三星等等一系列操作，讓後來阿斯麥爾的極紫外光光刻機成為技術霸主，呼風喚雨！

早在1985年Intel就投資阿斯麥爾實驗室幹晶片刻制機，上微家大業大，肩負國家使命（國企）。

智慧芽最新資料顯示，全球光刻機領域的專利申請總量達近18萬件。其中，專利申請數量排名前十的申請人分別是：ASML荷蘭有限公司、株式會社尼康、佳能株式會社、東京威力科創股份有限公司、愛思開海力士有限公司、三星電子株式會社、卡爾蔡司SMT有限責任公司、株式會社東芝、富士通株式會社和日本電気株式會社。

光刻機專利申請數量排名前十  圖片來源智慧牙（侵/刪）

而在國內（僅僅擁有近1。8萬件專利），上微專利申請數量位居國內榜首！其次是中芯國際、京東方、中科院光電技術研究所等等。

上微相關產品：

600掃描光刻機系列—前道IC製造

500步進光刻機系列—後道IC、MEMS製造

200光刻機系列—AM-OLED顯示屏製造

矽片邊緣曝光機系列——晶片級封裝工藝應用

精密溫控系列—光刻機、刻蝕機應用

精密溫度控制解決方案